真空镀膜产品常见不良分析、改善措施(二)
【添加时间：2016-11-24 14:48:45】【来源：】【作者：cddaxin】【阅读：】
真空镀膜产品常见不良分析、改善措施(二)
镀膜产品的不良，部分是镀膜工序的本身造成的，部分是前工程遗留的不良，镀膜最终的品质是整个光学零件加工的（特别是抛光、清洗）的综合反映，对于出现镀膜不良时必须综合考虑，才能真正找到不良产生的原因，对策改善才能取得成效。第二篇、膜料点
膜料点不良也是镀膜产品的一个常见问题，在日企、台企把膜料点称为“斑孔”
顾名思义，膜料点就是蒸镀中，大颗粒膜料点随着膜料蒸汽分子一起蒸镀到了基片的表面，在基片表面形成点状的突起，有时是个别点，严重时是成片的细点，大颗粒点甚至可以打伤基片表面。
各种膜料的蒸发特性是不一样的，特别是熔点温度和蒸发温度有很大差异
熔点温度大于蒸发温度的材料，由固态直接气化蒸发，是升华材料；
熔点温度小于蒸发温度的材料，由固态先化成液态尔后在转换成气态蒸发，是非升华材料；
熔点温度与蒸发温度相当的材料，由固态到气态蒸发，边融化边蒸发。是半升华材料。
其中非升华材料最容易产生膜料点，因为液态的膜料继续加热会沸腾，沸腾中膜料中的气泡溢出，飞溅膜料点的可能性加大。有时在材料预熔时就有很大的飞溅。
膜料受潮，预熔或蒸镀时水汽逸出，也会造成飞溅产生。
膜料不纯、膜料参杂，即膜料中有了熔点温度、蒸发温度不一致的材料，这也是膜料点产生的原因。
改善思路：选用好的膜料、充分预溶、控制速率。
改善对策：
㈠、选择杂质少的膜料
㈡、对易飞溅的膜料选择颗粒合适的膜料
㈢、膜料在镀前用网筛筛一下
㈣、精心预熔，MgF2务必熔透一次蒸镀所需膜料，而Ta2O5 和TiO2必须彻底熔透。
㈤、用一把电子枪镀制几种膜料时，防治坩埚转动中膜料参杂及挡板掉下 膜料渣造成膜料污染。一旦发现坩埚膜料有污染，应立即更换。
㈥、尽最大可能使蒸发舟、坩埚干净。（勤打扫）。
㈦、选择合适的蒸发速率及速率曲线的平滑。特别是非升华材料，蒸发速率不宜高。
㈧、膜料去潮，将待用膜料用培养皿盛放在真空室干燥
注意：有时膜层内有一些细小的点子，有可能不是膜料点，而是灰尘点，处理的方法与膜料点不良是不同的，应严格区分，分别处理。